为了限制中国半导体产业的发展，美国目前已联合荷兰、日本共同对中国光刻机及相关零部件的出口进行限制。

那么为什么限制中国半导体行业发展，要通过限制光刻机出口来实现呢！下面让我们了解一下光刻机的到底是用来干什么的吧！

光刻机的到底是用来干什么的

光刻机又名掩模对准曝光机，它是采用的是类似照片冲印的技术，将掩膜版上设计好的集成电路图通过光线的曝光印制到硅片上，简单来说光刻机就相当超高精度的照相机。

光刻机是芯片制造的核心设备，也可以说是决定半导体产业发展的“国之重器”，光刻机工艺直接决定了芯片制造的工艺水平和性能优劣，因此光刻机也被誉为半导体行业皇冠上的明珠。

目前，世界最大最先进的光刻机制造商当属荷兰的ASML，在全球45纳米以下高端光刻机市场当中，荷兰ASML市场占有率达到80%以上，而且目前ASML是全球唯一能够达到7纳米精度光刻机的制商，故其在全球处于一骑绝尘的霸主地位！

日本的尼康和佳能也是光刻机领域的主要生产商之一，大概占据全球市场20%以上的份额，产品主要面向中低端市场。

中国的光刻机行业目前还是短板，国内所需的高端光刻机目前仍需依赖国外进口。中国上海的微电子，是中国最具代表的光刻机制造商，其占据的市场的份额更小，但是近年来发展迅速极具潜力。

为了抑制中国半导体产业的发展，美国已出台的芯片法案，把禁止向中国出口芯片制造设备制造技术标准扩大到28纳米。而在美国与荷兰达成一个最新协议中，将会把个限制从老美之前的先进芯片制造设备上扩大到了14nm。

面对美国等国家对中国半导体行业的联合封锁、围追堵截，中国企业一直在寻求突破，在巨大压力下砥砺前，目前上海微电子已在技术上突破了90nm的制造瓶颈，现达到了28纳米，相信在不久的将来中国会彻底摆脱外部的枷锁，在光刻机领域取得更大的成绩！